HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域，二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例，當有氧存在時將最先與二氧化硫發生反映，起到抗氧化的作用，進而保證酵母菌的正常發酵，并抑制其他雜菌。

• 基于微電腦控制技術，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體
• 性能優良操作簡單，可直接顯示測量結果
• 人性化設計，具有穩定標識和校準信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當殘留濃度超過2.0ppm時，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。

型號 HI 84100

滴定范圍 0 to 400 ppm of SO2

滴定方法 等電位氧化還原滴定法

滴定精度 讀數的5%

取樣量 50 mL

ORP電極 HI 3148B

供電方式 220V/60 Hz；10VA

使用環境 0 to 50°C (32 to 122°F)；RH max 95%

尺寸重量 208 × 214 × 163 mm；2200 g