高純氣體潔凈度控制的標準
由于高純度體的使用地點、性質、關況(如溫度、壓力等)都不完全一致，所以，如何確定高純氣體的“三度”(純度、干燥度、潔凈度)，還沒有一個嚴格而明確的概念。
對于純度和干燥度的控制，我國CBJ73—84《潔凈廠房設計規范》中指出，“高純氣體系指純度大于或等于99.9995%，含水量小于5ppm氣體。”
日本把微電子生產中所采用的氣體，按其不同的品位，具體分為下列幾個不同的檔次。
超高純氣體
氣體中雜質總含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。
高純氣體
氣體中雜質總含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以內.
潔凈氣體
氣體中雜質總含量控制在10 ppm以下,對水份含量未作嚴格規定。
上述規定，都未涉及潔凈度。我們知道，集成電路的生科，有相當一部分是在潔凈，是防止法埃粒子污染微電子產品所必需的。所以，對潔凈的生產環境絕不允許采用不潔凈的氣體來破壞，必須使氣體的潔凈度與潔凈環境保持一致。
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